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熱搜關(guān)鍵詞：流體拋光機,磨粒流拋光設(shè)備,內(nèi)孔拋光
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斯曼克流體拋光工藝案例-電子器件拋光完成后的對比
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編輯時間: 2021-10-15 16:20:56
斯曼克流體拋光工藝
眾所周知，電子器件對拋光精度要求是非常高的，至于電子器件拋光所能提升的性能，因為我不是電子專業(yè)人士，所以無法給出準確答案。下圖所示的，是電子器件拋光完成后的對比。
磨粒流去毛刺設(shè)備
未拋光的電子器件邊緣呈暗黑色，有肉眼可見的粗糙顆粒。而拋光完成后的電子器件邊緣非常亮，幾乎呈鏡面效果，因為器件尺寸較小，所以鏡面不明顯。而完成以上工作的，并不是傳統(tǒng)人工打磨，而是磨粒流拋光設(shè)備。
通過下圖，我們可以簡單地了解一下磨粒流拋光該電子器件的原理：
高分子彈性軟磨料經(jīng)過磨粒流設(shè)備擠壓，流經(jīng)電子器件待拋光面，進行持續(xù)研磨，即可達到拋光效果，一款夾具可以攜帶10-15個這種類型的器件，整個拋光耗時約2分鐘。具體拋光壓力，以及磨料所選取的目數(shù)，您可以聯(lián)系我們，詳細咨詢！
